Сверхвысоковакуумный нанотехнический СЗМ-комплекс Nanofab-100

Предназначен для исследования геометрических параметров и физико-химических свойств микро и нанообъектов на поверхности различных образцов (включая полупроводниковые пластины диаметром до 100 мм) методами сканирующей зондовой микроскопии в условиях сверхвысокого вакуума.

Определяющая область применения - микро- и наноэлектроника (в том числе и в производственных условиях).

Основные технические характеристики

Давление остаточной атмосферы в СЗМ камере

5*10-8 Па, объем СЗМ-камеры -21 л

возможность работы в АСМ и СТМ режимах, замена иглы сканирования без напуска атмосферы,

автоматическое позиционирование образцов в диапазоне

100*100 мм

размер образцов

не более 100*15 мм

диапазоны сканирования иглы

3*3*2.6 мкм и 80*80*10 мкм

разрешение в плоскости ХУ

не более 0,15 нм, в плоскости Z -0,1 нм

возможность отжига образцов в вакууме

Производител

ЗАО “НТ-МДТ”, Россия

Получить консультацию